光耦生产技术及市场调研报告

光耦生产技术及市场调研报告

问:光耦的作用及工作原理是什么?
  1. 答:输入的电信号驱动(LED),使之发出一定波长的光,被光探测器接收而产生光电流,再经腔漏渣过进一步放大后输出。这就完成了电—光—电的转换,从而起到输入、输出、隔离的作用。
    由于光耦合器输入输出间互相隔离,电信号传输具有单向性等特点,因而具有良好的电绝缘能力和抗干扰能力。
    历史
    用光学方式耦合固态光及半导体感测器的想法是在1963由Akmenkalns等人提出(US patent 3,417,249)。为基础的光电耦合元件在1968年问世,其速度慢,但是是最线性隔离元件,在音乐及音响产业中仍有其。
    LED技术在搜并1968–1970年的商品化,使得光电工程大幅成长,在1970年代末各种主要的光电耦合元件均已开发出来。光电耦合元件的主力是双极性的硅光晶体感测器,可以达到足够的的传输速度,足以用在像之类的应用上,目前最快的光电耦合元件是利用光导模式的PIN型二极管。
问:光耦的作用及工作原理是什么?
  1. 答:光吵旦耦工宴绝作原理晌碰姿
问:塑封光耦如何声扫
  1. 答:塑封光耦升扫。他是通过一种光学传播来进行扫描的,你可以通过拆解里面结构来进行观看。
  2. 答:塑封光耦声袜凳扫方法如下:1.塑封器件声扫检测,针对三种缺陷:裂缝,空洞和分层。
    2.影响大的主要是分层,裂缝严重的外观看到,要么温循电测能剔,空洞在塑封体里,只要水汽进不去,问题也不大。
    3.分层,关注的是管脚内框架处,外键合点,内键合点和芯片,水汽进去,有两个问题,一是快速遇到高温,水汽气化膨胀,不只是电装时会有,高温测试,温度循环也会,出现键合丝拉断,塑封体爆裂,二是水汽腐蚀,水汽是腐蚀的温床,腐蚀相当快,我们敏轮解剖过告拿旅管脚处有分层的,框架都被腐蚀了。
  3. 答:塑封光耦如何声扫?回答是:塑宴滚弊封光耦声扫方法如下:1.塑封器件声扫检测,针对三种缺陷:裂缝,空洞和分层。
    2.影响大的主要是分层,裂缝严重的外观看到,要么温循电测能剔,空洞在塑封体里,只要水汽进不备尘去,问题也不大。
    3.分层,关注的是管脚内框架处,外键合点,内键合点和芯片,水汽进去,有两个问题,一是快速遇到高温,水汽气化膨胀,不只是电装时会有,高晌族温测试,温度循环也会,出现键合丝拉断,塑封体爆裂,二是水汽腐蚀,水汽是腐蚀的温床,腐蚀相当快,我们解剖过管脚处有分层的,框架都被腐蚀了。
  4. 答:1. 采用x-ray对塑封光耦进行内部成像,确定框架结答耐构、引脚(4,5)分布、芯片(2,3)位置和引线外键合点位置等;
    2. 对塑封光耦进行打磨,直至露出光耦隔离片1,具体过程包括:根据塑封配团光耦器件内部引脚(4,5)和芯片(2,3)的位置,从发光芯片2所在引脚4侧对
    3. 采用机械应力清卖春对塑封光耦进行解剖。
  5. 答:。目前,gjb4027a-2006及gjb548b-2005中均无塑封光耦的解剖方法,塑封光耦的解剖一直是困扰我们最大的问题,对于立体结构的光耦,长期咐凳以来只能通过酸腐蚀的方法将塑封材料及导光胶去除,该方法会破坏塑封光耦的基本框架,同时使键合丝及芯片粘接也受到破坏而只剩下裸芯片,因发光二极管体积较小,其极易丢失,这样就使得对塑封光耦进行dpa中的键合强度试验变得不可能,同时也增加了对塑封光耦进行失效分析的难度。因此,如何完整地解剖芯片并保存光耦的键合系统和粘片结构,对正确地给出基简含光耦的dpa结论或准确分析出搏笑失效原因就显得尤为重要。
    技术实现要素:
    本发明所要解决的技术问题在于针对上述现有技术中的不足,提供一种塑封光耦解剖方法,解决立体结构的塑封光耦解剖后,无法进行键合强度试验及无法进行芯片粘接分析的问题,使得光耦解剖后
  6. 答:塑封光偶对吧,只要6个角能够插在电路板上就能够声扫
  7. 答:要我说,塑封光耦一边一个三极管,一个二极管对立,两边扫出来都是下边的基板,就声扫来说水平高的可以通含核好过B扫描或透射扫描来试试成像效果,机扫肯定是扫不出来的,或氏皮者做个镜检从中间分开后扫描谈铅。
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